【公司简介】 拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月,是国家高新技术企业,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司在北京、上海、海宁、沈阳和美国成立子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备和晶圆混合键合(W2W Hybrid Bonding)设备等系列,拥有自主知识产权,技术指标达到国际同类产品的先进水平。产品主要应用于集成电路晶圆制造、TSV封装、MEMS、Micro-LED和Micro-OLED显示等高端技术领域。公司产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的60多条生产线,并设有技术服务中心,为客户提供每周7天,每天24小时的技术服务。公司已形成一支国际化的专业团队,具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累,公司已建立自主知识产权的核心技术群及知识产权体系,被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。公司总部坐落于沈阳市浑南区,拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房,总建筑面积达40,000平方米。目前公司生产能力可以满足生产需求。公司已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证,并拥有覆盖全球的供应商网络。拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟,为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。

【所属板块】 半导体,辽宁板块,百元股,专精特新,MSCI中国,沪股通,中证500,上证180_,融资融券,中芯概念,半导体概念

【主营产品】 主营产品：报告期：2023-12-31,其他(补充)收入0.7亿 ，占比2.61% ，利润0.42亿 ，占比3.07% ，毛利率60.13%；混合键合设备收入0.64亿 ，占比2.38% ，利润0.33亿 ，占比2.37% ，毛利率50.84%；薄膜沉积设备收入25.7亿 ，占比95.02% ，利润13.05亿 ，占比94.56% ，毛利率50.76%

【主营业务】 主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。

【经营范围】 一般项目:企业总部管理;企业管理;企业管理咨询;自有资金投资的资产管理服务;以自有资金从事投资活动;财务咨询;社会经济咨询服务;租赁服务(不含许可类租赁服务);国内贸易代理;销售代理。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)(最终以工商登记机关核定为准)

• 【半导体器件专用设备制造】根据证监会《上市公司行业分类指引》(2012年修订),公司隶属于专用设备制造业(行业代码:C35)。根据《国民经济行业分类》(GB/T4754-2017),公司隶属于专用设备制造业下的半导体器件专用设备制造(行业代码:C3562)。根据国家统计局颁布的《战略性新兴产业分类(2018)》,公司隶属于新一代信息技术产业下的集成电路制造行业。;
• 【行业地位及客户资源】发行人以建立“世界领先的薄膜设备公司”为愿景,通过在薄膜沉积设备这一半导体核心设备细分领域的积累和快速发展,已经成为国内半导体设备行业的领军企业。公司分别于2016、2017、2019年获得中国半导体行业协会颁发的“中国半导体设备五强企业”称号。公司的主要产品PECVD、ALD及SACVD设备已批量发往国内主要集成电路晶圆厂产线。此外,公司积极开拓国际市场机会,公司已与某国际领先晶圆厂建立业务联系,发货两台设备至客户先进制程研发产线,为打开国际市场奠定了基础。;
• 【客户需求快速响应优势】公司针对客户提出的特定工艺材料、特定制造工序薄膜性能的快速响应能力可以及时满足客户产线的客制化设备需求。这对于中国本土客户近年来能够快速扩充产能极其重要,由此建立和巩固与客户稳定的合作关系。公司主要客户的生产基地位于中国大陆,相较于国际竞争对手,公司最高层管理和技术团队更贴近主要客户,能够提供更快捷、更经济的技术支持,及时保障和满足客户需求。;
• 【自愿锁定股份】自公司股票上市之日起三十六个月内,不转让或者委托他人管理本次发行前本人直接及间接持有的公司股份,也不由公司回购本人直接及间接持有的该部分股份。;
• 【股利分配】在满足现金分红条件的基础上,结合公司持续经营和长期发展,公司每年以现金方式分配的利润不少于当年实现的可分配利润的10%,且最近3年以现金方式累计分配的利润不少于最近3年实现的年均可分配利润的30%。;
• 【高端半导体专用设备】拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。;
• 【技术积累及研发平台优势】拓荆科技自设立以来,坚持自主创新,形成了一系列独创性的设计,构建了完善的知识产权体系。截至2022年3月8日,拓荆科技累计已获授权的专利174项,其中发明专利共计98项。公司先后承担了“90-65nm等离子体增强化学气相沉积设备研发与应用”和“1xnm3DNANDPECVD研发及产业化”等4项国家重大科技专项/课题,已研发了支持不同工艺型号的PECVD、ALD和SACVD设备,在半导体薄膜沉积设备领域积累了多项研发及产业化的核心技术,构建了具有设备种类、工艺型号外延开发能力的研发平台。;
• 【稳定股价措施】公司首次公开发行股票并上市后三年内,如公司股票收盘价格连续20个交易日低于最近一期经审计的每股净资产,公司将通过控股股东增持股份、公司全体董事(独立董事除外)和高级管理人员增持公司股票以及公司回购股份等措施来稳定股价。;
• 【经营范围】一般项目:企业总部管理;企业管理;企业管理咨询;自有资金投资的资产管理服务;以自有资金从事投资活动;财务咨询;社会经济咨询服务;租赁服务(不含许可类租赁服务);国内贸易代理;销售代理。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)(最终以工商登记机关核定为准);
• 【所属板块】半导体 辽宁板块 百元股 专精特新 MSCI中国 沪股通 中证500 上证180_ 融资融券 中芯概念 半导体概念

【公司沿革】 发行人前身沈阳拓荆科技有限公司成立于2010年4月28日,注册资本1,000万元;中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司、孙丽杰分别出资600万元、400万元,持有拓荆有限60%、40%的股权。为整体变更设立为股份有限公司之目的,拓荆有限分别聘请审计机构天健会计师事务所(特殊普通合伙)和资产评估机构北京中企华资产评估有限责任公司对公司截至2020年5月31日的净资产进行了审计和评估。2021年1月12日,沈阳市市场监督管理局核准拓荆有限整体变更设立为股份有限公司,并向发行人核发了营业执照。 拓荆有限整体变更为股份有限公司时,改制基准日2020年5月31日的财务报表未分配利润为-28,126.78万元,存在累计未弥补亏损。半导体专用设备行业具有技术壁垒高、研发投入大、产品验证周期长的特点。在公司业务发展初期,公司需要对产品进行大额的投入。在产品研发完成后,公司需要将产品发运至客户端进行验证,验证完成后才能形成销售,而客户端的验证周期通常较长。因此,公司在前期产品技术研发、市场培育、客户导入的过程中,需要较高的投入,却不能在短期内转化为公司的销售收入,从而形成了整体变更设立股份有限公司时的累计未弥补亏损。 2019年5月,经拓荆有限董事会决议,大连港航向中微公司转让其所持拓荆有限3.9646%股权,转让价格为19元/元注册资本。本次股权转让价格由转让双方参照北京中企华资产评估有限责任公司出具的《资产评估报告》(中企华评报字(2018)第3695号)为基础协商定价。2019年5月6日,沈阳市浑南区市场监督管理局核准拓荆有限的本次变更。经拓荆有限董事会2019年5月作出决议,中科仪拟对外转让所持拓荆有限4.215%的股权。中科仪为中科院下属企业,本次转让采用进场交易。2019年5月17日,沈阳市浑南区市场监督管理局核准拓荆有限的本次变更。依据摘牌前与盐城燕舞达成的协议,宿迁浑璞于2019年7月向盐城燕舞转让所持拓荆有限2.1075%的股权,转让价格为宿迁浑璞在北京产权交易所挂牌交易中取得标的股权的交易本金及资金占用成本,转让价格为19.18元/元注册资本,转让价款共计2,887.0245万元。2019年7月12日,沈阳市浑南区市场监督管理局核准拓荆有限的本次变更。